反射式全息光栅

全息光栅是由两束激光束干涉形成条纹，并在抛光底片上曝光，曝光介质上就形成了正弦横截面图案。

全息光栅产生的杂散光比刻划光栅少，每毫米可有3600线，高于理论分辨率。由于正横截面图案的关系，全息光栅不容易产生闪耀，与刻划型光栅相比效率也低了一些。但是，值得一提的是，当刻线宽度与波长之比接近1的时候，全息光栅的效率事实上与刻划行光栅是一样的。而且，每毫米1800线的全息光栅在500nm时与刻划光栅的效率是一样的。全息光栅与刻划光栅采取同样的方法进行复制。

光栅处理：光栅需要进行特殊处理，不过要避免它们沾染指纹和气溶胶。光栅只能由边缘处进行处理。在清理光栅前，请与我们联系。