
- Ideal for Interferometry Applications
- Long Working Distances and High Numerical Apertures
- High-Quality Plan Apochromatic Design

- 非常适合通过LCD玻璃进行亮场成像和基于激光的应用
- 在 Nd:YAG 激光谱线上的出色表现
- 补偿盖板玻璃厚度为 0.7mm 或 1.1mm

- 全新设计的M Plan NIR HR 和 M Plan UV镜头
- M Plan NIR HR 镜头提高了分辨率
- M Plan UV 镜头 在266nm 和550nm 进行优化

- 设计用于 三丰(Mitutoyo) NIR,NUV,和UV 远场校正物镜
- 最大传感器尺寸为 2/3”
- 激光加工和机械加工的理想选择
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