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Coherent® LightSmyth™ 139nm, 50nm Groove Depth, 12.5mm Sq. Linear Silicon Nanostamp

Name: Coherent® LightSmyth™ 139nm, 50nm Groove Depth, 12.5mm Sq. Linear Silicon Nanostamp
Brand: Coherent®
SKU: 16-857
Price: 7535.97 RMB

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产品编码 #16-857 3 库存

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规格

概况

型号:

1304117

类型:

Nanopatterned Silicon Stamp

物理和机械特性

Period (nm):

139 ±6.95

Groove Depth (nm):

50 ±7.5

Line Width (nm):

70 ±7

尺寸 (mm):

12.50 x 12.50

有效孔径 CA（mm）:

11.50 x 11.50

构造 :

RIE Grating

长度 (mm):

12.50

厚度 (mm):

0.68 ±0.05

宽度 (mm):

12.50

光学特性

涂层:

Uncoated

Single Crystal Silicon

表面质量:

60-40 (within CA)

合规性

Certificate of Conformance:

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Need different specs or modifications?

爱特蒙特光学（Edmund Optics）为您提供全面的光学和成像元件定制服务，精准满足特定应用需求。无论您的项目处于原型开发阶段还是筹备量产阶段，我们都能为您提供灵活的解决方案。从概念设计到产品交付，我们经验丰富的工程师团队将为您提供全程支持。

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产品概览

纳米级纹理凹槽表面
可变凹槽周期和凹槽深度
纳米光子学研究应用的理想选择

Coherent® LightSmyth™ 纳米图案硅印章由在单晶硅基板上形成图案的纳米级纹理表面组成。通过反应离子蚀刻，具有梯形横截面的线性凹槽被蚀刻到基板表面，类似于传统的光栅。蚀刻工艺可为这些凹槽提供不同的周期和深度规格，以及更复杂的图案，例如晶格。II-VI LightSmyth™ 纳米图案硅印章是光学和光子学、生物学、化学、纳米压印和微流体领域的纳米光子学研究应用的理想选择。

请注意: II-VI Incorporated 已变更为 Coherent Corp.

技术数据

SEM Image of 139nm, 50nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Cross Section)

SEM Image of 139nm, 50nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Top Down)

特殊处理

这些光学器件需要特殊处理，以避免损坏并确保长期性能。正确的处理、清洁和储存对保持光学质量至关重要。请浏览我们的清洁光学产品资源指南，以了解正确的清洁步骤以及最佳的清洁方法。如需要特别帮助，请通过, 电子邮件/a>或线上聊天请通过电子邮件或线上聊天与我们的资深技术团队进行联系。

Coherent® LightSmyth™ 139nm, 50nm Groove Depth, 12.5mm Sq. Linear Silicon Nanostamp

规格

概况

物理和机械特性

光学特性

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SEM Image of 139nm, 50nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Cross Section)

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