全息光栅是由两束激光束干涉形成条纹,并在抛光底片上曝光,曝光介质上就形成了正弦横截面图案。
全息光栅产生的杂散光比刻划光栅少,每毫米可有3600线,高于理论分辨率。由于正横截面图案的关系,全息光栅不容易产生闪耀,与刻划型光栅相比效率也低了一些。但是,值得一提的是,当刻线宽度与波长之比接近1的时候,全息光栅的效率事实上与刻划行光栅是一样的。而且,每毫米1800线的全息光栅在500nm时与刻划光栅的效率是一样的。全息光栅与刻划光栅采取同样的方法进行复制。
光栅处理:光栅需要进行特殊处理,不过要避免它们沾染指纹和气溶胶。光栅只能由边缘处进行处理。在清理光栅前,请与我们联系。
这些光学器件需要特殊处理,以避免损坏并确保长期性能。正确的处理、清洁和储存对保持光学质量至关重要。请浏览我们的 清洁光学产品资源指南,以了解正确的清洁步骤以及最佳的清洁方法。如需要特别帮助,请通过, 电子邮件/a>或线上聊天请通过电子邮件或线上聊天与我们的资深技术团队进行联系。
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