近红外 (NIR) 线性偏振膜

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  • 特别适合 NIR 偏振应用
  • 800 - 2200nm 下的消光比 >400:1
  • 在各种波长范围内均拥有高效率
  • 采用耐用的聚合物基片

近红外 (NIR) 线性偏振膜由耐用的聚合物基片组成,特别适合从可见光到近红外 (400 - 2200nm) 的成像应用。该偏振聚合物薄膜的平均透射率为 39%,在 760 和 2200nm 的入射随机偏振光下的偏振效率大于 99.6%。多种矩形尺寸可用于容纳从光束直径较小的低功率 NIR 激光器到较大 LED 光束的所有光源。近红外 (NIR) 线性偏振膜用于工业成像和实验室应用,即减低输出近红外激光器和 LED 的强度,或减少近红外光电检测器记录的图像中的眩光。偏振轴标记在偏振聚合物膜的保护性挡板上。

注意: 在第一次使用前,请移除保护罩。

 
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