Name: Coherent® LightSmyth™ 855nm, 200nm Groove Depth, 12.5mm Sq. Linear Silicon Nanostamp
Brand: Coherent®
SKU: 16-855
Price: RMB 5,354.51

Coherent® LightSmyth™ 855nm, 200nm Groove Depth, 12.5mm Sq. Linear Silicon Nanostamp

产品编码 #16-855 6-10 工作日

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Period (nm):

855 ±42.75

Groove Depth (nm):

200 ±30

Line Width (nm):

425

尺寸 (mm):

12.50 x 12.50

有效孔径 CA（mm）:

11.50 x 11.50

涂层:

Uncoated

构造 :

RIE Grating

长度 (mm):

12.50

型号:

1304075

Single Crystal Silicon

表面质量:

60-40 (within CA)

厚度 (mm):

0.68 ±0.05

类型:

Nanopatterned Silicon Stamp

宽度 (mm):

12.50

合规性

RoHS:

符合标准

Certificate of Conformance:

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产品系列说明

纳米级纹理凹槽表面
可变凹槽周期和凹槽深度
纳米光子学研究应用的理想选择

Coherent® LightSmyth™ 纳米图案硅印章由在单晶硅基板上形成图案的纳米级纹理表面组成。通过反应离子蚀刻，具有梯形横截面的线性凹槽被蚀刻到基板表面，类似于传统的光栅。蚀刻工艺可为这些凹槽提供不同的周期和深度规格，以及更复杂的图案，例如晶格。II-VI LightSmyth™ 纳米图案硅印章是光学和光子学、生物学、化学、纳米压印和微流体领域的纳米光子学研究应用的理想选择。

请注意: II-VI Incorporated 已变更为 Coherent Corp.

Coherent® LightSmyth™ 855nm, 200nm Groove Depth, 12.5mm Sq. Linear Silicon Nanostamp

合规性

产品系列说明

SEM Image of 855nm, 200nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Cross Section)

SEM Image of 855nm, 200nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Top Down)

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