刻线式衍射光栅

刻线式衍射光栅广泛应用于各类单色仪，适用于研究、教学和工业领域。几乎所有市售的分光光度计（包括紫外、可见、红外、荧光、拉曼、原子吸收等类型）均采用衍射光栅来选择特定波长或进行波长区间扫描。通常，在需要高峰值效率和通量时，应选用重复刻划光栅；而在最小杂散光至关重要且需高分辨率时，则应选用重复全息光栅。请注意: 刻线式衍射光栅和全息光栅的损伤阈值分别为：脉冲激光350毫焦耳/平方厘米，连续波激光40瓦特/平方厘米。

光栅处理：光栅需要特殊处理，因为容易沾染指纹和气溶胶。光栅只能从边缘进行处理。在尝试清洁光栅之前，请 联系我们。

刻线式衍射光栅的制造工艺

刻线式衍射光栅通过在光学平整的铝涂层基板上刻划一系列紧密排列的直平行槽线制成，该基板称为“底层光栅”。利用精确的干涉仪控制刻划机，使用精细的金刚石工具，在预处理基板表面形成特定角度（通常称为闪耀角）的锯齿形槽线轮廓。复制过程首先对刻划母光栅的表面轮廓进行真空沉积，涂覆一层极薄的分离层，然后在此分离层上沉积铝涂层。接着，将涂有环氧树脂的平面玻璃基板放置在覆盖层的底层光栅上，复制出槽线表面。经过固化处理，当复制光栅从底层光栅上分离时，整个复制过程即告完成。