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13.5nm 极紫外 (EUV) 平面反射镜有现货,可立即交付

Ideal for beam steering and materials science research

10/4/2018, Barrington, NJ USA   —

作为光学元件的主要供应商,爱特蒙特光学 (Edmund Optics®)(以下简称“EO”)推出 极紫外 (EUV) 平面反射镜. 这些经过精密抛光的多层反射镜在其设计波长和入射角 (AOI) 下可实现最大反射率。它们专为极紫外线光束转向和谐波分离应用而设计.

13.5nm 下可实现的最大反射

极紫外 (EUV) 平面反射镜提供 5° 和 45° AOI 版本,在 13.5 nm 下可获得近乎理想的反射率,是 EUV 光谱中拥有最高反射率的波长。RoHS 兼容型反射镜提供一种沉积在超抛光单晶硅基片上的镀膜,具有优越的热稳定性。这些 EUV 平面镜的表面粗糙度小于 3Å RMS,可大大降低入射光的散射。多层金属/半导体镀膜包括具有硅表层的钼/硅多层。45° AOI 平面镜在 632.8 nm 和 6.35 mm 厚度下的表面平整度为 λ/10,非常适合转向 S 偏振光束,5° AOI 平面镜则非常适用于非偏振光束.

适用于 CDI 和材料科学研究

极紫外 (EUV) 平面反射镜用于相干衍射成像 (CDI) 和材料科学研究等新兴应用。CDI 是一种非接触式成像技术,可以达到接近 10nm 的分辨率,常用来分析极小的纳米结构。反射镜也被用作高谐波生成 (HHG) 光束的谐波选择器。极紫外 (EUV) 平面反射镜有现货,可立即交付.

关于EO:

作为光学,成像和光子技术的知名供应商,爱特蒙特光学 (EO) 在全球生命科学、生物医学、半导体,研发领域和安全安保市场享有盛誉. 爱特蒙特光学(Edmund Optics®)不仅专注于设计与制造各种多元件镜头、镜头涂层,成像系统和光器设备,同时支持量产和定制产品 OEM 应用。爱特蒙特光学具有先进生产能力,结合其遍布于全球的业务网络,目前已成为全球最大的现货光学元件供应商. 如需订购或有任何疑问,中国区可拨打+86-755-84355459, 29675435与我们的销售部门联系. 您也可以登录我们的网站www.edmundoptics.cn或查看我们的目录来了解具体产品.

 
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